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    華威科新聞

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    武漢華威科受邀參加第二屆中國高??萍汲晒灰讜?/div>
    來源:武漢華威科智能技術有限公司 發布時間:2018-06-04 瀏覽量:

        5月25日-27日,以“促進產學深度融合攜手創新共贏發展”為主題的第二屆中國高??萍汲晒灰讜ㄒ陨虾喎Q“科交會)在廣東省惠州市會展中心隆重舉行。我公司生產的HEIJ系列高分辨率電流體噴印裝備代表參展,受到了教育部杜占元副部長一行以及惠州市人大副主任陳力強、和鵬飛常委的重點巡視,獲得了本次展會的優秀項目展示獎。




    HEIJ設備介紹:

        HEIJ系列科研型電流體噴印設備,源自華中科技大學數字制造裝備與技術國家重點實驗室尹周平教授、黃永安教授團隊的高分辨率電流體噴印原創性技術,授權國家發明專利40余項、國際專利1項,獲2017年湖北省自然科學一等獎和2014年國際日內瓦發明展金獎。HEIJ設備配置高速視覺系統、高精度多自由度運動平臺、真空吸附、基臺加熱等功能模塊,適用1-10000cPs粘度的有機/無機墨水,集成按需點噴、紡絲直寫、霧化制膜三種打印模式,支持矢量圖、位圖等圖形輸入,高精度制備微納級點/點陣、線/曲線、薄膜結構等復雜微納圖案。

        HEIJ科研型系列電流體噴印設備應用領域涵蓋顯示、傳感、光學、能源、材料、生物、醫藥、健康、化工等,適用墨水包括聚合物、金屬納米墨水、鹽溶液、光刻膠、石墨烯、DNA、蛋白質等,用于打印制備量子點、RGB、TFT、觸摸屏、壓電/氣敏元器、電路、OPV、細胞支架、生長基等,以及晶體生長、微量輸送、材料修復、化學沉積等所需的復雜微納結構。


        據悉,本屆科交會共有350余所國內重點高校、港澳高校、海外高校的1萬余項科技項目參展,現場組織展覽展示、推介項目8200余項,重點項目路演100項,參觀人數達2.6萬人,從規格、規模和展覽成果數量上都超過了首屆科交會。武漢華威科在新形勢下,緊抓產品創新和質量,向客戶提供有競爭力的智能制造技術與解決方案,持續為客戶創造最大價值。




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